E ka aroloa ka DC magnetron sputtering le RF magnetron sputtering.
The DC sputtering mokhoa o hloka hore sepheo se ka fetisetsa tefiso e ntle e fumanoeng ho tloha ts'ebetsong ea ion bombardment ho ea ho cathode e haufi le eona, ebe mokhoa ona o ka senya data ea conductor feela, e sa lokelang bakeng sa data ea insulation, hobane tefiso ea ion ka holim'a metsi e ke ke ea fokotsoa ha ho qhoma sepheo sa insulation, e leng se tla lebisa keketsehong ea bokhoni sebakeng se shebiloeng, mme hoo e batlang e le matla ohle a sebelisitsoeng a sebelisoa ho sepheo, kahoo menyetla ea ho potlakisa ion le ionization lipakeng tsa lipalo tse peli li tla fokotsoa, kapa esita le li ke ke tsa e-ba ionized, E lebisa ho hloleheng ha phepelo e tsoelang pele, esita le tšitiso ea ho qhala le tšitiso ea sputtering.Ka hona, radio frequency sputtering (RF) e tlameha ho sebelisoa bakeng sa ho sireletsa sepheo kapa lipehelo tse seng tsa tšepe tse nang le conductivity e fokolang.
Ts'ebetso ea sputtering e kenyelletsa mekhoa e rarahaneng ea ho hasanya le mekhoa e fapaneng ea ho fetisa matla: pele, likaroloana tsa ketsahalo li thulana ka elastically le liathomo tse lebisitsoeng, 'me karolo ea matla a kinetic ea likaroloana tsa ketsahalo e tla fetisetsoa ho liathomo tse lebisitsoeng.Matla a kinetic a liathomo tse ling tse shebiloeng a feta mokoallo o ka bang teng o entsoeng ke liathomo tse ling tse li potileng (5-10ev bakeng sa litšepe), ebe li ntšoa ka har'a letlapa la lattice ho hlahisa liathomo tse kantle ho sebaka, Le ho thulana khafetsa le liathomo tse haufi. , e leng se bakang ho thulana ho hoholo.Ha khohlopo ena ea ho thulana e fihla holim'a sepheo, haeba matla a kinetic a liathomo tse haufi le bokaholimo ba sepheo a le kholo ho feta matla a tlamang holim'a metsi (1-6ev bakeng sa litšepe), liathomo tsena li tla arohana le bokaholimo ba sepheo. ebe o kenya vacuum.
Sputtering coating ke bokhoni ba ho sebelisa likaroloana tse qosoang ho phunya bokaholimo ba sepheo ka har'a vacuum ho etsa hore likaroloana tse hlasetsoeng li bokelle holim'a substrate.Ka tloaelo, phallo ea khase e nang le khatello e tlase e sebelisoang ho hlahisa li-ion tsa ketsahalo.Sepheo sa cathode se entsoe ka thepa ea ho roala, substrate e sebelisoa e le anode, 0.1-10pa argon kapa khase e 'ngoe ea inert e kenngoa ka kamoreng ea vacuum,' me ho ntšoa ha khanya ho etsahala tlas'a ketso ea cathode (sepheo) 1-3kv DC e phahameng e mpe. motlakase kapa 13.56MHz RF voltage.Li-ionized argon ions li otla bokaholimo ba sepheo, li etsa hore liathomo tse shebiloeng li phatlohe le ho bokellana holim'a substrate ho etsa filimi e tšesaane.Hajoale, ho na le mekhoa e mengata ea ho fafatsa, haholo-holo e kenyelletsang ho fafatsa, thuto e phahameng kapa ea quaternary, magnetron sputtering, target sputtering, RF sputtering, bias sputtering, asymmetric communication RF sputtering, ion beam sputtering le reactive reactive.
Hobane liathomo tse hahelletsoeng li phatloha ka mor'a ho fapanyetsana matla a kinetic ka li-ion tse ntle ka mashome a matla a li-volts tsa elektronike, liathomo tse phatlohileng li na le matla a mangata, a thusang ho ntlafatsa bokhoni ba ho hasana ba liathomo nakong ea ho bokellana, ho ntlafatsa botle ba tlhophiso ea ho bokella le ho etsa. filimi e lokiselitsoeng e na le ho khomarela ka matla le substrate.
Nakong ea sputtering, ka mor'a hore khase e be ionized, li-ion tsa khase li fofela ho sepheo se amanang le cathode tlas'a ts'ebetso ea tšimo ea motlakase, 'me li-electrone li fofa ho ea leboteng le fatše le substrate.Ka tsela ena, tlas'a matla a tlaase le khatello e tlaase, palo ea li-ion e nyenyane 'me matla a sputtering a sepheo a tlaase;Ka matla a phahameng a matla le khatello e phahameng, le hoja li-ion tse ngata li ka etsahala, li-electrone tse fofang ho substrate li na le matla a mangata, ao ho leng bonolo ho futhumatsa substrate esita le sputtering ea bobeli, e amang boleng ba filimi.Ho feta moo, monyetla oa ho thulana pakeng tsa liathomo tse shebiloeng le limolek'hule tsa khase nakong ea ho fofela substrate le tsona li eketsehile haholo.Ka hona, e tla hasana ho pota-potile eohle, e ke keng ea senya sepheo feela, empa hape e silafatsa lera le leng le le leng nakong ea ho lokisetsa lifilimi tse ngata.
E le ho rarolla mefokolo e ka holimo, theknoloji ea DC magnetron sputtering e ile ea ntlafatsoa ka bo-1970.E atleha ho hlōla mefokolo ea sekhahla se tlaase sa cathode sputtering le ho eketseha ha mocheso oa substrate o bakoang ke li-electrone.Ka hona, e ntlafalitsoe ka potlako le e sebelisoang haholo.
Molao-motheo ona ke o latelang: ho magnetron sputtering, hobane lielektrone tse tsamaeang li tlas'a matla a Lorentz ka matla a khoheli, potoloho ea tsona e tla ba tortuous kapa esita le ho sisinyeha ha spiral, 'me tsela ea bona ea ho sisinyeha e tla ba telele.Ka hona, palo ea likhohlano le limolek'hule tsa khase e sebetsang e ntse e eketseha, e le hore sekhahla sa plasma se eketsehe, ebe sekhahla sa magnetron sputtering se ntlafatsoa haholo, 'me se ka sebetsa tlas'a khatello e tlaase ea sputtering le khatello ea ho fokotsa tšekamelo ea tšilafalo ea filimi;Ka lehlakoreng le leng, e boetse e ntlafatsa matla a ketsahalo ea liathomo holim'a substrate, kahoo boleng ba filimi bo ka ntlafatsoa haholo.Ka nako e ts'oanang, ha li-electrone tse lahleheloang ke matla ka ho thulana ka makhetlo a mangata li fihla ho anode, li fetohile li-electrone tse fokolang matla, ebe substrate e ke ke ea chesa haholo.Ka hona, magnetron sputtering e na le melemo ea "lebelo le phahameng" le "mocheso o tlaase".Bothata ba mokhoa ona ke hore filimi ea insulator e ke ke ea lokisoa, 'me matla a khoheli a sa lekaneng a sebelisoang ka electrode ea magnetron e tla etsa hore ho be le mokhoa o hlakileng o sa lekaneng oa sepheo, e leng se tla fella ka tekanyo e tlaase ea tšebeliso ea sepheo, seo hangata e leng 20% - 30 feela. %.
Nako ea poso: May-16-2022